第三届Raith用户会议圆满结束

2011Raith电子束光刻中国地区用户会议(Raith Chinese User Meeting, 2011)于7月17号在中科院物理所隆重召开。

会议主要针对Raith电子束光刻基本原理（如何获得高分辨率图形），技术进展（三维曝光，长路径图形）国际最新应用等问题进行了深入地探讨和愉快地交流。会议内容充实，气氛融洽，反应热烈，得到了用户的一致好评！

参加本次会议的用户主要包括中科院物理所、中科院半导体所、苏州医工所、国家纳米中心、北京大学、中山大学、中国科技大学、苏州大学、华南理工大学及西安工业大学等多个国内知名院校和研究院所。对本次会议，Raith公司给予了极大的支持及高度的重视，派出亚洲地区市场经理Andre Linden先生，以及德国总部应用工程师 Daniel Bernhardt先生参加会议作精彩演讲，全面介绍了微纳米加工技术的基础及其最新发展，并与用户展开深入讨论。

本次会议由中科院物理所承办，在此我们向物理所参与本次会议的所有老师和同学表示衷心的感谢, 向所有参加会议的老师和同学表示衷心的感谢，并期待下次用户会与您相见！