北京汇德信科技有限公司

杨氏模量无损测量


我公司在与国内外多家科研机构、高新技术企业等紧密合作的基础上,引入了“Labless Research”的概念,推出一站式分析测试服务,用户可直接将测试样品交由我们测试,这样既可以避免自身购置设备时的大量投入,也节省了维护设备所需的人员和经费。目前我公司提供的测试服务项目主要涉及材料的介电性能测量,杨氏模量无损测量,全功能稳定性分析测试,粘结强度、结构强度和剪切力测试,微纳米结构加工服务。具体详情如下:


杨氏模量无损测量


LAwave杨氏模量无损测量设备


设备名称:LAwave杨氏模量无损测量设备


设备原产地:德国


设备生产厂家:Fraunhofer IWS研究所


可测量样品种类:块体材料、薄膜材料(包括各类无机材料和聚合物材料)


可测量参数:杨氏模量、薄膜厚度、密度;可获得表面声波波速色散曲线ASCII数据、表面声波信号二进制数据、材料参数的Excel数据表格


主要用途:对于薄膜样品,知道薄膜厚度可测量杨氏模量,知道其杨氏模量可测量薄膜厚度;可通过测量表面声波波速的色散曲线来分析表面损伤程度、表面腐蚀程度、热喷涂材料的孔隙率等。另外,可以测量多层膜样品各层的杨氏模量、厚度。


样品要求:


  • 块体材料:
    • 尺寸:最小尺寸5 mm × 15 mm,最大可测4寸样品
    • 厚度:单晶硅 ≥ 0.5 mm,其它材料 ≥ 2 mm
    • 表面粗糙度:Rz ≤ 1 μm(平整表面有利于提高测试精度)
    • 材料:要求材料对可见光波段有良好的吸收(即材料不透明),高分子材料或内部微结构缺陷较多的材料(会对声波传播产生较大阻尼)不适合测试
    • 其它:需要已知块体材料的密度信息

  • 薄膜材料:
    • 尺寸:最小尺寸5 mm × 15 mm,最大可测4寸样品
    • 薄膜厚度:> 10 nm
    • 薄膜质量:采用电镀、溅射、喷涂、旋涂等方式,使薄膜与衬底紧密结合;薄膜材料本身连续且厚度均匀
    • 表面粗糙度:Rz ≤ 1 μm(平整表面有利于提高测试精度)
    • 基底材料:基底对可见光波段有良好的吸收(即材料不透明),推荐采用单抛单晶硅片作为基底材料,薄膜生长在抛光面上
    • 薄膜材料:薄膜材料可以是透明的;高分子材料或内部微结构缺陷较多的材料,可能影响测试结果
    • 其它:需要已知薄膜材料的厚度、密度信息


 

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