北京汇德信科技有限公司

微波等离子去胶机

微波等离子去胶机微波等离子清洗机应用

微波等离子去胶机

简介:


去胶工艺是微加工实验中一个非常重要的过程。在电子束曝光、紫外曝光等微纳米加工工艺之后,都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶去除的是否干净彻底、对样片是否有损伤等问题将直接影响到后续工艺的顺利完成。德国ALPHA PLAMSA拥有多年的去胶经验,致力于给您提供专业的微波等离子体去胶机系统,并提供专业的技术支持服务。


产品优势:


  • 去胶快速彻底
  • 对样片无损伤
  • 操作简单安全
  • 设计紧凑美观
  • 产品性价比高


产品用途:


  • 高剂量离子注入光刻胶的去除
  • 湿法或干法刻蚀前后的去残胶
  • MEMS中牺牲层的去除
  • 去除化学残余物
  • 清除浮渣工艺


SU-8胶的去除:


MEMS工艺中经常用到SU8光刻胶,然而SU8非常稳定,其最致命的缺点就是去胶困难。为了解决SU-8光刻胶的去胶问题,我们向您推荐德国Alpha Plasma专业的SU-8微波等离子体去胶机,该设备采用氟基气体的去胶工艺,利用氟基气体与SU-8胶的化学反应,实现快速去除SU-8功能。同时设备中还集成了温控系统,去胶过程中对衬底温度的控制保证了高深宽比金属结构的完整性,最终实现高质量MEMS器件的制备。SU-8去胶速率验收指标为1μm/min,实验中可达到几个微米。因此这款专业的SU8去胶机是MEMS去胶工艺的理想选择。

台式去胶机

柜式去胶机



Q150

Q235

Q240

AL76

腔室材质

石英

石英

石英

最大样片尺寸

4"

6"

8"

8"

腔室尺寸
mm

φ150 x 260depth

φ235 x 260depth

φ240x 460depth

400 mm x 400 mm x 490 mm
(宽x高x深)

工艺压力
(Pascal)

1-100

1-100

1-100

1-100

频率(GHz)

2.45

2.45

2.45

2.45

功率(W)

600

600

1200

1200

SU8去除工艺

YES

YES

YES

YES

控制方式

全自动运行

全自动运行

全自动运行

全自动运行

显示屏尺寸

7"

10.4"

10.4"

10.4"

台式设备外形尺寸(WxHxD, mm

500x370x550

620x500x550

760x775x775

770 x 775 x 800


微波等离子清洗机的应用

 

微波等离子去胶机在MEMS(微电子机械系统)中PI聚酰亚胺牺牲层去除方面的应用


MEMS是微电子技术与机械、光学等领域交叉融合的产物,是在IC工艺技术基础上的延伸和拓展,是微电子技术应用的新突破。


MEMS的微加工中,需要悬空结构的工艺都需要借助牺牲层技术来实现。PI聚酰亚胺是牺牲层工艺中常用的光刻胶,在PI聚酰亚胺去除的工艺中,要求完全去除牺牲层内的光刻胶,等离子具有良好的均匀性,对于样品的悬臂梁没有损伤。


德国ALPHA PLASMA公司在PI聚酰亚胺牺牲层释放上有丰富的经验,面对较厚的PI牺牲层,采用微波等离子体,具有更高的等离子体密度,快速升温的加热盘可以加快去胶速度,最终实现牺牲层释放干净,均匀,快速,对样品没有损伤。


MEMS牺牲层工艺


MEMS牺牲层工艺图


设备型号:ASTRO PACTO-H/G、ASTRO PACTO-W全自动工业机台


牺牲层释放前
牺牲层释放前
牺牲层释放后
牺牲层释放后



微波等离子去胶机在去除SU-8环氧树脂类光刻胶的应用


SU-8作为一种先进的光刻胶主要用于半导体加工、微纳米技术等领域,通过使用UV光刻等技术对超厚SU8及功能性SU8光刻胶进行图案化,广泛用于MEMS\MOMES、UV-LIGA、显示器、柔性显示器、微流道、生物医学、半导体、封装、太阳能、光子晶体、微燃料电池等领域。


SU-8光刻胶具有甩胶厚度大(几十微米到几百微米)、高深宽比、侧壁垂直等优势,可以使用X射线、紫外及电子束曝光等方式进行图案化。因为其化学性能稳定,以至于在曝光显影后很难去除,传统的湿法采用化学溶剂的方式去除SU8,该方式去除速度非常慢(厚的光刻胶甚至几十个小时),并且不够环保。


德国ALPHA PLASMA公司在SU-8光刻胶去除上有丰富的经验,其采用微波等离子体,具有更高的等离子密度,氟基气体加O2的工艺可以更快的去除SU-8,根据实验经验,去胶速率验收指标为1μm/min,实验中可达到几个微米。


Alpha Plasma微波等离子去胶机的优点:


  • 2.45GHz 微波等离子去胶/ 清洗
  • 高密度等离子体、去胶快速彻底
  • 低自偏压、对样片无损伤
  • 操作简单安全、设计紧凑美观
  • 德国制造、产品性价比高


设备型号:Q150、AL18、AL76、ASTRO系列产品


微波等离子去胶机Q150   微波等离子去胶机AL18   微波等离子去胶机ASTRO


测试样品:SU-8厚度50um,经过Alpha Plasma等离子去胶工艺后,SU-8去除干净。


Alpha Plasma 处理前
Alpha Plasma 处理前
Alpha Plasma 处理后(SU-8完全去除)
牺牲层释放后



 

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