北京汇德信科技有限公司

脉冲激光沉积系统 (PLD)

脉冲激光沉积 (Pulsed laser deposition, PLD),就是将激光聚焦于靶材上一个较小的面积,利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离,使其能够脱离靶材而向基底运动,进而在基底上沉积,从而形成薄膜的一种方式。 在众多的薄膜制备方法中,脉冲激光沉积技术的应用较为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等。


PLD系统的核心技术一直被国外垄断,以往的国产系统在性能上与进口设备存在较大差距。我们的研发团队通过与国内顶尖科研机构协作,共同开发出了性能优异的PLD系统。我公司开发的第一台脉冲激光沉积系统(PLD)已顺利交付用户(清华大学)使用,并获得用户的好评。


脉冲激光沉积系统 (PLD)

脉冲激光沉积系统(PLD)


脉冲激光沉积系统配置:


  • 生长室,进样室可选
  • 水平、垂直两种靶台可选
  • 激光加热和辐射加热两种样品台可选,激光加热最高温度1200℃
  • 工艺气路可以任意搭配
  • 配备高压RHEED,工作气压可达100Pa
  • 可预留法兰,用于LEED,K-Cell, E-beam等
  • 其它可选项如臭氧发生器,离子源,掩膜系统等


脉冲激光沉积系统特点及优势:


  • 可根据客户需求定制产品,灵活性高,并提供专业的技术支持;
  • 靶台最多可以安装6个靶位,靶材更换灵活;
  • 样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用;
  • 进样室可以存储多个靶和样品;
  • 交易过程无需繁琐的进、出关手续, 交货期短,性价比高;


另外,我们还提供不含RHEED的简易PLD系统,并可根据用户的要求定制。



 

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