百及纳米超高精度电子束光刻机

百及纳米原子级制造尺度超高精度电子束光刻机P21，以常规30KV电子束光刻机为载体，通过国际唯一性专利技术对其进行功能及性能指标的显著提升。

超高精度电子束光刻机

百及纳米P21是一款集光刻功能，扫描电镜功能和纳米探针表面量测功能为一体的组合系统：

• 实现新颖的电子束闭环控制系统，实现电子束的原位检测与校正;
• 写场的超高精度拼接（误差≤2 – 8 nm）;
• 电子束光刻的长期稳定性。精确校正电子束的相对空间漂移，将其位置稳定性提高到 ≤15 nm/h

光刻结构示例

纳米光栅结构

高精度写场拼接

没有百及纳米闭环控制技术的拼接实例

使用百及纳米闭环控制技术改进后的拼接实例

设备性能主要参数