北京汇德信科技有限公司

真空设备定制、改造与维护

北京汇德信科技有限公司自1999年成立以来,始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨,将国际上先进的纳米科学技术设备引进到国内。产品覆盖了微纳米制造、检测、分析等相关领域,并已经被国内众多科研院所和大学使用,并得到用户一致好评和认可。


我们经过多年的技术积累,并与国内用户、国外厂商紧密合作,共同研发具有独立知识产权的高科技含量的科研仪器设备。从“代理”产品走向 “研发”产品,迈出了具有重大意义的一步。


我们的研发团队成员都是从事多年相关领域工作的专业人士,具有丰富的系统设计、安装、维修经验。我们服务于各大高校、科研院所和部分工业用户,产品涵盖薄膜生长设备和材料测试系统,可为您提供优质的设备定制、全面的技术培训及完善的售后服务。


目前我们的用户多分布在高校和科研院所,如清华大学、北京邮电大学、中国科技大学、南方科技大学、华南师范大学、航天5院等单位。


您的需求是我们的目标,您的意见是我们的动力,北京汇德信期待与您携手合作。


我们提供的服务:


真空设备定制:


脉冲激光沉积系统定制、磁控溅射系统定制、二次电子发射系数测试系统……


其他:


真空设备维护、真空设备升级改造、样品台改造、机械加工……


脉冲激光沉积设备(PLD)定制


我们经过多年的技术积累,充分研究了国内外PLD设备的优缺点,开发出了性能优异的PLD系统。


我们可以提供单腔室简易PLD系统和双腔室复杂PLD系统。


单腔室简易型脉冲激光沉积系统(PLD)
图1.单腔室简易型脉冲激光沉积系统(PLD)
双腔室脉冲激光沉积系统(PLD)

图2. 双腔室脉冲激光沉积系统(PLD)


设计特点如下:


  • 设计灵活新颖,可根据用户需求定制系统;
  • 自主设计的激光加热系统,最高加热温度1400°C;
  • 靶台具有摆动功能,可增加靶材利用率;
  • 可配备高压RHEED,用于监测薄膜的生长过程;
  • 升级空间大,集成灵活度高,可加配离子源、溅射源等;
  • 可与其他真空设备对接;


磁控溅射靶枪定制


1.规格参数


固定法兰 CF100
真空内长度 283 mm(可定制)
真空内直径 88 mm
水冷要求 0.5 升/分钟
靶材种类 金属、合金、半导体、绝缘体
靶材直径 2" (50 mm)
靶材厚度 0.5-6 mm(磁性材料≤3mm)
磁铁 Sm2Co7
电源 DC或RF
挡板控制 手动或电机控制
烘烤温度 250°C
磁控溅射靶枪


2.特点


  • 可以集成到多种国产或进口磁控溅射设备上,靶枪的真空内长度可以定制;
  • 安装法兰上带有独立的溅射气体接口;
  • 采用独特的气体导流罩将溅射气体引入到靶面,可以在靶材附近实现更高的气压,同时也能降低腔室的气压;


3.用途


  • 高校科研院所磁控溅射薄膜材料的研究与制备;
  • 本科生或研究生的仪器教学;


二次电子发射系数测试系统定制


二次电子发射系数测试设备(SEY)用于金属或介质材料二次电子发射系数的测试。由于涉及到微弱电信号的探测和捕捉,该设备结构复杂,测试的灵敏度和重复性要求较高,目前国外只有少数几家公司可以研制并生产。为打破垄断,北京汇德信科技有限公司研制开发了具有自主知识产权,专用于导体和介质材料二次电子发射系数分析测试的整套解决方案。


LEO 二次电子发射系数测试系统(SEY)

LEO 二次电子发射系数测试系统(SEY)


设计特点如下:


  • 栅网的透过率大于80%,收集效率高;
  • 采用三层栅网及半球型收集器,可测试材料的二次电子发射系数及二次电子能谱;
  • 一次电子枪的能量范围从50 eV到5 KeV,并可扩展到更高能量;
  • 具备脉冲信号测量功能,可测试介质材料的二次电子系数;
  • 样品台可倾斜,可测试不同入射角度下的二次电子系数;




 

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