北京汇德信科技有限公司

图形发生器 ELPHY MultiBeam


ELPHY MultiBeam

纳米图型化标准,升级您的FIB-SEM系统


图形发生器ELPHY MultiBeam是用于优化电子束和离子束技术的图形发生器附件。将在多技术纳米加工中的新进展,和在优异的电子束曝光性能基础上升级出的三维离子束加工相结合,ELPHY MultiBeam在一种分析型的FIB-SEM双束系统上实现了真正的光刻加工能力。


ELPHY MultiBeam图形发生器在一台仪器里包含了所有全面的多样化的纳米加工技术和功能。


  • 聚焦离子束Milling, 刻蚀和沉积
  • 离子束光刻(IBL)
  • 气体辅助聚焦电子束诱导工艺(FEBIP)
  • 氦离子束图型化


当今的FIB-SEM已提供了多种应用技术,在它上面增加一台强大和具有独特功能ELPHY MultiBeam图形发生器,可使它升级成为一台真正的纳米图型化设备。


  • 超高速图形发生器硬件,低噪声,差分输出,高精度多倍数模转换器
  • DirectAlignDesign*软件运用复杂GDSII文件在图像上进行图型化
  • FLEXposure*:观测、编辑和加工GDSII设计,具有先进的图型化模式
  • 对于缺省参数和优化设置,有工艺方案管理解决手段
  • 多种工艺(FIB / SEM / EDX / …)由软件驱动信号路由器自动化完成
  • 使用成像功能自动识别标记,灵活地优化套刻结果
  • 三维电子束曝光EBL和离子束加工IBL: 非线性剂量分布计算,自动输入灰度数据
  • 利用GDSII设计数据可分层和FLEXposure*参数编辑进行三维纳米刻蚀加工


ELPHY MultiBeam使FIB-SEM和纳米图型化能力得以最大化。


图形发生器ELPHY MultiBeam指标


  • 运用数字信号处理器技术的专业的图形发生器
  • 热稳定16 bit数模转换器
  • 50nm最小停留时间,1GHz分辨率
  • 软件驱动多点输入/输出信号路由器
  • Raith的NanoSuite软件包,适于Windows 7
  • Windows 7操作系统的提前安装好的电脑


ELPHY MultiBeam

ELPHY MultiBeam使FIB-SEM和纳米图型化能力得以最大化。


图形发生器ELPHY MultiBeam指标


  • 运用数字信号处理器技术的专业的图形发生器
  • 热稳定16 bit数模转换器
  • 50nm最小停留时间,1GHz分辨率
  • 软件驱动多点输入/输出信号路由器
  • Raith的NanoSuite软件包,适于Windows 7
  • Windows 7操作系统的提前安装好的电脑


点击查看更多详情:ELPHY MultiBeam 图形发生器


 

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