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eLINE Plus超高分辨的电子束曝光系统和纳米加工平台


eLINE Plus是一种超高分辨的电子束曝光系统和适合多领域多应用的纳米加工平台。


将先进电子束曝光、纳米工程和超高分辨成像/度量完美融合,创新性地将eLINE Plus打造成为模块化可扩展的研究工作。它是唯一的成功地在"经典强大"的电子束光刻上结合其他多种应用工具的电子束光刻系统,同时对任何的光刻指标不造成影响。而且,eLINE Plus作为科研型机器推动着器件/硅片级电子束曝光性能。


与其他构建于分析显微镜上的多用途工具不同,eLINE Plus是唯一的可专业处理复杂图案和纳米加工任务的系统。eLINE Plus配备的专业的电子束曝光功能和高精密控制的激光干涉工作台,保证了运动和图型化定位的纳米级精度,不可否认这是成为专业曝光工具的先决条件。


另外,高效地工作台控制系统允许实现独特的图型化模式:固定束移动工作台曝光模式(FBMS)。使用FBMS,实现了零拼接误差长路径任意形状曝光。


得到了大家共识和广泛地证明,稳定的热场发射灯丝技术、自动高度检测和调焦控制,和灵活的提供了各种想不到的手段的软件,这些使得eLINE Plus作为专业的电子束曝光机得到进一步完善。


通过这些创新性的理念和独有的技术,Raith为大家提供了既保证高精度,又具有全自动大面积曝光的高度集成化的解决方案,样片尺寸最大可达4英寸。


原位式纳米工程-电子束曝光系统的强有力的提升


eLINE Plus的主要任务是对光刻胶实现曝光,但它作为纳米加工系统又不仅仅局限于此。既然先进器件需要纳米尺度上的高度集成化,电子束光刻机上也可以进一步构建高度集成化的分系统,在线地实现纳米加工从零维到三维,从纳米结构到了宏观外部世界。


只有eLINE Plus电子束曝光系统在设计上包含了多用途技术,而且是作为日常使用的基本部分。先进的科学研究需要这些额外的原位功能,例如:


  • 电学纳米探针/多点测量
  • 纳米结构的机械操纵
  • 场发射针尖加工和在标准悬臂上加工AFM超针尖
  • 三维纳米蚀刻
  • 纳米孔加工
  • 硬模版/刻蚀版加工(表面保护/密封)
  • 纳米/微米管/吸量管
  • 科研型电路和模版修补
  • 在线纳米结构接触和接线的输运测量
  • 成像和(材料/空间)分析


所有的附件,如实现电子束诱导沉积和刻蚀的气体注入系统,或者是纳米操纵手,都完全集成到了Raith的Nanosuite软件包。在软件包特殊设计的图表化用户界面上,这些附件的功能可以嵌入在全自动纳米加工工序中。


独有的,高效的探测器——超出一般的电子束曝光系统的电子探测器功能,也可以结合进灵活的eLINE Plus配置里:能量和角选择背散射电子探测器,更灵活和可靠地进行标记识别,系统校准更方便,或者观测更智能,通过材料对比度来识别纳米结构。



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只有eLINE Plus电子束曝光系统在设计上包含了多用途技术,而且是作为日常使用的基本部分。先进的科学研究需要这些额外的原位功能,例如:


  • 电学纳米探针/多点测量
  • 纳米结构的机械操纵
  • 场发射针尖加工和在标准悬臂上加工AFM超针尖
  • 三维纳米蚀刻
  • 纳米孔加工
  • 硬模版/刻蚀版加工(表面保护/密封)
  • 纳米/微米管/吸量管
  • 科研型电路和模版修补
  • 在线纳米结构接触和接线的输运测量
  • 成像和(材料/空间)分析


所有的附件,如实现电子束诱导沉积和刻蚀的气体注入系统,或者是纳米操纵手,都完全集成到了Raith的Nanosuite软件包。在软件包特殊设计的图表化用户界面上,这些附件的功能可以嵌入在全自动纳米加工工序中。


独有的,高效的探测器——超出一般的电子束曝光系统的电子探测器功能,也可以结合进灵活的eLINE Plus配置里:能量和角选择背散射电子探测器,更灵活和可靠地进行标记识别,系统校准更方便,或者观测更智能,通过材料对比度来识别纳米结构。



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