北京汇德信科技有限公司

RAITH150 Two 电子束光刻系统


RAITH150 Two提供先进的电子束光刻系统架构,及对场地环境要求低,无需在基础设施投入太大。


是研究所和大学的合适的选择:


  • 简单易学,所有级别人员都能使用
  • 多用户管理支持并行获取,对众多用户也可以分配不同的权限


学术研发团队


  • 专业级GDSII设计文件
  • 自动任务列表
  • 科研型器件,硅片,模板制作


纳米服务中心


  • 多项目硅片级曝光
  • 操作速度快
  • 各区域已建立专业的技术服务中心


实现扩展应用


  • 超高分辨率曝光
  • 与光学曝光配合实现混合曝光
  • 先进的器件原型制作
  • 高分辨模板曝光
  • 零拼接制备光学器件


直写模式

超高分辨电子束曝光和超高分辨结果观测的完美结合


  • 小于8nm光刻
  • 卓越的标记识别技术
  • 自动上下料
  • 最大7" 模板 / 8" 硅片处理能力
  • 自动聚焦修正
  • 自动样片调平
  • 独特的零拼接曝光模式(FBMS固定束移动工作台曝光)
  • 全面的人性化用户界面


观测模式


  • 超高分辨观测
    • 工艺过程和控制
    • 图形和器件测量
  • 不同的旋转和倾斜角度
  • 直接明了的样品导航能力



RAITH150 Two

从科研到小批量生产转变

高分辨纳米点阵结构

三维曝光菲涅耳透镜结构

大高宽比(10:1)光子晶体结构

HSQ胶上5纳米宽纳米线

无拼接误差的延迟波导

 

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