北京汇德信科技有限公司

EUV极紫外光源及相关产品

EUV极紫外光源及相关产品


EUV极紫外辐射光可以通过气体放电产生,也可以通过使用脉冲激光向目标发射而产生。我们实现了一种紧凑的,由气体放电驱动的EUV光源,应用领域包括EUV光刻,纳米结构制造,X射线显微镜和反射式表面分析领域。波长在2至20 nm范围内的短波EUV光源为纳米级表面的结构化和分析开辟了新的可能性。


极紫外光刻已被认为是最有前景的光刻技术之一,使用EUV光刻技术在13.5 nm波长下进行芯片制造成为各大厂的选择。


我们的服务范围包括针对客户需求的可行性研究和技术咨询,EUV光源及相关检测设备。


基于EUV的应用


  • 干涉光刻制造纳米结构
  • EUV显微镜进行掩模检查
  • EUV掩膜版的缺陷检查
  • X射线显微镜
  • EUV反射法(分析表面和纳米层)


EUV极紫外光谱仪
EUV极紫外光谱仪



 

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