北京汇德信科技有限公司

电子束曝光用导电胶 Electra 92 (AR-PC 5090 / 5091)
原型号:SX AR-PC 5000/90.2

当您在使用导电性差或绝缘材料(如石英、蓝宝石、氧化镁、生物样品等)进行电子显微镜(SEM)成像、电子束曝光(EBL)或聚焦离子束刻蚀(FIB)等科研工作时,是否遇到过下面的难题:


  1. 曝光/ 刻蚀/ 成像图形畸变、漂移。
  2. 电子束或离子束无法“照射”到样品上,不能进行正常的曝光/ 刻蚀/ 成像。
  3. 样品放电。

……


造成以上现象的主要原因是样品表面的荷电效应(充电效应)。对于导体材料来说,其荷电效应几乎可以自身消除;但是当您使用导电性差或绝缘材料时,材料本身无法迅速有效地将积累在表面的带电粒子转移,而产生局部区域内的电荷积累,这种局部区域内的电荷积累在样品表面形成了非均匀的静电场,对后续的电子束产生横向的排斥,继而产生上述问题。


德国Allresist公司推出了一款性能优异、操作简单、经济实惠的产品(AR-PC 5090 / 5091导电胶),可有效地帮您解决以上问题。


产品特点:


  • 可有效消除电子显微成像、电子束曝光、离子束加工等工艺中的荷电效应;
  • 不影响电子束曝光参数,无需重新摸索曝光条件;
  • 电子束曝光后可溶于水,非常容易去除,且不损伤衬底材料;
  • 电子显微(SEM)成像后,导电聚合物可用水洗掉,样品可重复使用;
  • 通过旋涂的方式涂胶,操作简单;
  • 对紫外光、电子束等不敏感,容易储存;
  • 包装规格多样(30ml, 100ml, 250ml, 1L, 2.5L等),适合不同规模的科研和生产需要;
  • 购买流程方便快捷,帮您省去繁琐的清关流程;


电子束曝光(EBL)应用实例:


Line width down to about 20nm
in HSQ on quartz substrates
200nm Ti/gold squares with 5μm spacing
in PMMA on glass


扫描电子显微(SEM)成像应用:


          

Images of highly insulating polymer structures (coated with Electra 92, AR-PC 5090.02) in SEM

注:成像观察后导电聚合物可使用水洗掉,样品可重复利用。


导电胶使用流程(EBL):


旋涂电子束光刻胶 旋涂导电胶AR-PC 5090.02 电子束曝光

去除导电胶(水洗) 显影


更多光刻胶产品,请查询:www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514,或联系我们,获取更多详细资料和报价。


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