当您在使用导电性差或绝缘材料（如石英、蓝宝石、氧化镁、生物样品等）进行电子显微镜（SEM）成像、电子束曝光（EBL）或聚焦离子束刻蚀（FIB）等科研工作时，是否遇到过下面的难题：
- 曝光/ 刻蚀/ 成像图形畸变、漂移。
- 电子束或离子束无法“照射”到样品上，不能进行正常的曝光/ 刻蚀/ 成像。
- 样品放电。
……
造成以上现象的主要原因是样品表面的荷电效应（充电效应）。对于导体材料来说，其荷电效应几乎可以自身消除；但是当您使用导电性差或绝缘材料时，材料本身无法迅速有效地将积累在表面的带电粒子转移，而产生局部区域内的电荷积累，这种局部区域内的电荷积累在样品表面形成了非均匀的静电场，对后续的电子束产生横向的排斥，继而产生上述问题。
德国Allresist公司推出了一款性能优异、操作简单、经济实惠的产品（AR-PC 5090 / 5091导电胶），可有效地帮您解决以上问题。
产品特点：
- 可有效消除电子显微成像、电子束曝光、离子束加工等工艺中的荷电效应；
- 不影响电子束曝光参数，无需重新摸索曝光条件；
- 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料；
- 电子显微（SEM）成像后，导电聚合物可用水洗掉，样品可重复使用；
- 通过旋涂的方式涂胶，操作简单；
- 对紫外光、电子束等不敏感，容易储存；
- 包装规格多样(30ml, 100ml, 250ml, 1L, 2.5L等)，适合不同规模的科研和生产需要；
- 购买流程方便快捷，帮您省去繁琐的清关流程；
电子束曝光（EBL）应用实例：
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| Line width down to about 20nm in HSQ on quartz substrates |
200nm Ti/gold squares with 5μm spacing in PMMA on glass |
扫描电子显微（SEM）成像应用：
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Images of highly insulating polymer structures (coated with Electra 92, AR-PC 5090.02) in SEM 注：成像观察后导电聚合物可使用水洗掉，样品可重复利用。 |
导电胶使用流程(EBL)：
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| 旋涂电子束光刻胶 | 旋涂导电胶AR-PC 5090.02 | 电子束曝光 |
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| 去除导电胶(水洗) | 显影 |
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