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2016年度RAITH电子束光刻作品评选活动开始啦

2016年度RAITH图片奖现在开始投稿了,所有采用RAITH设备制作的各种微纳米图形结构都可以参加评奖,投稿截止日期为2016年9月15日。以下是图片奖评奖活动的信息,如您感兴趣,可登陆下方链接进入RAITH网站进行注册并投稿。该活动奖品丰厚,望广大国内用户积极参与,赢得大奖。


参赛资格


所有RAITH用户均可参加


参赛要求


用户可多次参加投稿,每次投稿最多接受三张同一应用的图片,图片需要需带有描述性文字和简要的研究背景。


获奖评判标准


纳米结构的独特性

成像的技术水平

图片类型及描述


奖励机制


一等奖:RAITH资助获奖者参加纳米技术相关的会议包括机票及住宿费用。

二等奖:亚马逊购物卡(金额还未公布,以Raith官方为准) 。

三等奖:亚马逊购物卡(金额还未公布,以Raith官方为准) 。


RAITH评奖投稿链接:https://www.raith.com/company/micrograph-award.html


点击查看:2015年度 RAITH获奖作品欣赏



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