第二届Raith用户会议圆满结束

2009年3月28日,Raith电子束曝光系统中国地区用户会议(Raith Chinese User Meeting, 2009)在中科院半导体所隆重召开.

会议主要针对Raith电子束曝光系统的新应用及电子束曝光技术等问题进行了深入的探讨和愉快的交流。并展示了国际及国内各用户的新技术成果. 会议内容充实，气氛融洽，得到了用户的一致好评！

参加本次会议的用户主要包括中科院半导体所、中科院物理所、国家纳米中心、北京大学、浙江大学、中国科技大学、南京大学、上海技术物理所及中山大学等多个国内知名院校和研究院所。作为Raith公司中国总代理，市场主管孙女士及几位技术工程师也参加了此次会议。Raith公司更是派出了亚洲地区总监Keith Moulding先生、市场经理Andre Linden先生以及专程从德国总部赶来的设备应用专家Guido Piaszenski先生出席本次会议，对本次会议给予了大力支持及高度的重视。

本次会议是由中科院半导体所承办的，在此我们向半导体所参与本次会议的所有老师和同学表示衷心的感谢, 向所有参加会议的老师和同学表示衷心的感谢！