北京汇德信科技有限公司

纳米激光直写光刻系统

激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料(光刻胶)实施变剂量曝光,显影后在抗蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓。激光直写系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描,在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形,从而把设计图形直接转移到掩模上。


产品特点:


  • 我们的系统利用激光与材料的非线性相互作用,成功突破了光学衍射极限的限制,实现了纳米尺度的加工分辨力,最小的孔洞直径可达50nm。
  • 我们的系统针对的不仅仅是光刻胶,我们可接受多受体材料:通过高精度的功率调制,可兼容包括金属薄膜、无机相变材料、光刻胶等多种受体材料。
  • 可靠易用性:拥有强大的软件功能,支持标量刻写、矢量刻写等多种刻写模式,供用户根据不同的刻写场景而选择。还支持样品刻写后的在线分析,使用户一站式完成设计、刻写、分析等步骤,大大提高了工作效率。


LDW-P系列


纳米激光直写光刻系统 LDW-P系列


  • 激光波长:405 nm
  • 特征尺寸:100 nm
  • 激光功率:120mW 至300 mW(可选)
  • 刻写范围:100μm×100μm 至 1500μm×1500 μm(可选)
  • 产品描述:LDW-P系列是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的移动范围,分为P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型号,具有结构紧凑、操作方便、维护简单、加工分辨率高、支持多种受体材料等特征,能广泛适用于各种微纳结构及器件制造、材料工艺探素和小规模生产。该系列产品还可根据用户特殊需求,提供定制设计和制造。


LDW-L系列


纳米激光直写光刻系统 LDW-L系列


  • 激光波长:405 nm
  • 特征尺寸:100 nm
  • 激光功率:120mW 至300 mW(可选)
  • 刻写范围:50mm×50mm 至 100mm×100 mm(可选)
  • 产品描述:LDW-L系列是一款大面积、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大面积微纳加工,适用于各种微纳结构和器件制造、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型号,具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外,本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源,以满足后续功能升级换代的需求,使产品具有更长的生命周期。


结果示例:


示例1


示例2


示例3


示例4


示例5



 

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