北京汇德信科技有限公司

简易紫外曝光系统及部件

紫外光源系统基片台光强计/能量计

紫外光源系统


应用:


光学曝光、光刻胶稳定化处理、图形反转、边胶修复、光固化


特点:


大面积均匀准直光源,高稳定性和免维护设计,可定制圆形或方形区域,非相干光消除衍射效应。


紫外光源系统图1
紫外光源系统图1



Near UV系统

Deep UV系统

辐照面积

100-300mm

100-300mm

波长

340-450nm

220-260nm

240-275nm

254-325nm

功率

1000W,2000W,3500W

光强均匀性

圆形:±5%(标准型);±2.5%(高均匀型)

方形:±6%(标准型);±3.5%(高均匀型)

曝光控制

0.1-999.9 sec



基片台


根据需求,定制基片台和夹具。


旋转基片台
旋转基片台
倾斜基片台
倾斜基片台
真空吸片台
真空吸片台

套刻对准台
套刻对准台
加热台
加热台



光强计/能量计


光强计


型号

光谱范围

Near UV

NUV365B(350nm-375nm)

NUV400B(380nm-425nm)

NUV436B(405nm-460nm)

NUV436NB(436nm)

Mid UV

MUV280(270nm-295nm)

MUV310NB(310nm)

Deep UV

DUV220(220nm-260nm)

DUV254B(254nm)

DUV260(240nm-275nm)


光强计/能量计


 

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