北京汇德信科技有限公司

简易紫外曝光系统及部件

紫外光源系统基片台光强计/能量计

紫外光源系统


高准直紫外系统可以应用在微电子领域的光刻图形化过程,适合生产和科研应用领域。我们可提供从近紫外至深紫外波段的多种方案光源系统,最大支持12英寸面积(300mm)。


紫外光源系统使用了高性能的光学模组,包含:椭球反射器、热辐射过滤镜、多元件光学积分器和准直器系统。光学积分器的使用可以实现非相干光光照,大大降低由衍射效应引起的不利影响,使曝光系统能够在厚胶表面得到更精细结构。


应用:


光学曝光、光刻胶稳定化处理、图形反转、边胶修复、光固化。


特点:


  • 高性能、高均匀性,光源系统
  • 近、中、深紫外,不同波长光源可选
  • 200W、350W、500W、1000W、2000W,不同功率可选
  • 精确控制电功率或光强,高稳定性
  • 曝光快门数字控制(0.1-999.9秒),最小控制精度0.1秒
  • 高稳定性和免维护设计
  • 光源辐照圆形或方形区域可选
  • 非相干光消除衍射效应


紫外光源系统图1
紫外光源系统图1



Near UV系统

Deep UV系统

辐照面积

100-300mm

100-300mm

波长

340-450nm

220-260nm

240-275nm

254-325nm

功率

1000W,2000W,3500W

光强均匀性

圆形:±5%(标准型);±2.5%(高均匀型)

方形:±6%(标准型);±3.5%(高均匀型)

曝光控制

0.1-999.9 sec



基片台


根据需求,定制基片台和夹具。


旋转基片台
旋转基片台
倾斜基片台
倾斜基片台
真空吸片台
真空吸片台

套刻对准台
套刻对准台
加热台
加热台



光强计/能量计


光强计


光度计根据所选择的探测器不同,波长测量范围从UVA、UVB、UVC至近红外波段。产品可应用于3D打印、光固化、光刻、医疗等领域。


型号 规格
Model 100 单波长,单探测器
测量参数:功率
可选量程: 0.01-200mW/cm2 或0.1-2,000mW/cm2,可选一种
Model 200 单波长,单探测器
测量参数:功率
量程: 1-200mW/cm2 或0.1-20W/cm2,可手动切换
Model 202 双波长,单探测器(双通道:两种波长)
测量参数:功率
量程:1-200mW/cm2 或0.1-20W/cm2,可手动切换
Model 220 单波长,单探测器(双通道:功率、能量)
测量参数:功率、能量
功率量程:0.01-200mW/cm2 或1-20,000mW/cm2,可手动切换
能量量程:0.01-200mJ/cm2 或1-20,000mJ/cm2,可手动切换
Model 221 单波长,单探测器(双通道:功率、能量)
测量参数:功率、能量
功率量程:0.01-200mW/cm2 或1-2,000mW/cm2,可手动切换
能量量程:0.01-200mJ/cm2 或1-2,000mJ/cm2,可手动切换


型号

光谱范围

Near UV

NUV365B(350nm-375nm)

NUV400B(380nm-425nm)

NUV436B(405nm-460nm)

NUV436NB(436nm)

Mid UV

MUV280(270nm-295nm)

MUV310NB(310nm)

Deep UV

DUV220(220nm-260nm)

DUV254B(254nm)

DUV260(240nm-275nm)


光强计/能量计


 

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