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超高真空用腔体-真空脱气处理

真空脱气处理


真空脱气处理是对真空腔体/零件等在真空中进行加热,减少实际使用时的真空容器内壁以及内部零件材料的气体放出,即使腔体达到良好环境的前处理。


真空脱气处理采用每秒3000升的涡轮分子泵,Qmass可精确控制残留气体。脱气处理后进行高精密脱脂清洗处理。


另外,对磁耦合样品传输装置、驱动器、XY水平位移台等真空驱动装置也实施真空脱气处理,提供良好真空环境。对要求到达真空度E-9Pa~E-10Pa级的腔体,可减小启动烘烤温度值和加热时间。


超高真空用腔体-真空脱气处理


规格:

有效尺寸 750x750x750(mm)以下
烘烤温度 ≤450℃(溶解波纹管制品≤250℃)
加热时间 450℃-10小时
温度控制 程序式温度调节器
冷却方式 自然冷却
气体 Ar
到达真空度 加热处理中的真空度 10-7 Pa
排气系统 5.0x10-5 Pa


 

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