北京汇德信科技有限公司

EBPG 高端电子束光刻系统


EBPG5200 Series 高端电子束光刻系统 EBPG5150 高端电子束光刻系统

EBPG5200 Series 高端电子束光刻系统

EBPG5150 高端电子束光刻系统


EBPG5150系列电子束曝光机是非常先进高端的电子束曝光机,在全球范围的先进纳米光刻领域,尤其是在GaAs等晶圆级器件的研发和生产领域中得到了广泛的应用。该系列曝光机显著的优势在于超快的曝光速度,非常高的自动化程度,并具备超高的曝光分辨率,外形紧凑美观等,因此非常适用于各种纳米器件的研发及批量生产。EBPG5150系列设备的模块化、可升级的设计原则,使得其可以适应将来更高的应用需求。


产品特点:


  • 高电流密度热场发射电子枪,电压20, 50 and 100kV
  • 样片尺寸:6英寸及以下(EBPG5150),8英寸及以下(EBPG5200)
  • 最小特征尺寸:小于8nm
  • 快速曝光图形发生器:50 or 100MHz
  • 在所有加速电压条件下,可连续变换大写场尺寸至1mm
  • 多用户管理环境,图形用户界面,易学易用
  • 灵活的配置,保证更好地适合应用的需要



 

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