北京汇德信科技有限公司

TwinLITH


TwinLITH

二种手段共同开发直写工艺


Raith的 TwinLITH是下一代的纳米加工的根本解决方案。关键之处在于它是一种全新的光刻平台,其中电子束和离子束配合操作,并全程全自动控制。


近年来因为设备仪器和工艺的发展,在下一代纳米图型化中,电子束和离子束曝光越来越频繁地被配合起来使用。两种技术有着不同的历史渊源和发展路径,以及在纳米加工中体现出来的互补的力量,当两者共同建立于一种独特的光刻系统架构上,每种技术都获得益处,变得真正地先进。它包括都具有激光干涉工作台、更利于图型化的优化的光学系统和稳定集成的设置等硬件,以及用于导航、专业设计文件、先进的束控制和自动化操作的软件系统。


Raith提供电子束和离子束光刻系统,它们配备了相同的硬件和软件平台,在纳米加工任务中可同步工作并相互补充,效果显著可认为它们是一对系统。采用这种TwinLITH的理念,Raith开发了用离子束系统加工第一个全功能硬X射线波带片。而且,对于纳米柱器件的硅片级加工,电子束和离子体共同工作,实现的精度更高,且工艺更容易。



电子束曝光系统和离子束加工系统配合使用

HSQ胶上高分辨的电子束曝光图形

蝴蝶结结构纳米天线,采用ionLINE在AFM针尖上直接加工,两三角形之间间隙为10 nm

4英寸晶圆上175个连接点和读出电极器件

用IBL在两个连接点间隙处打孔

在100nm厚Si3N4上刻蚀直径为20nm的孔

 

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