北京汇德信科技有限公司

PhableR紫外光刻系统(全息光刻系统)

高分辨紫外光刻系统 / 全息光刻系统

科研/生产兼用


简介


PhableR全息光刻系统是一款纳米级高分辨图形化设备。设备基于PHABLE光刻技术,采用传统mask-aligner紫外光刻机操作方式,在光刻胶上曝光大面积纳米图形。设备有双工作模式:全息光刻模式,分辨率不受到衍射限制,可以曝光周期性纳米图形;掩膜对准光刻模式,可作为传统掩膜对准式曝光系统。


特点及优势:


  • 纳米级分辨能力(分辨率50nm);
  • 晶圆级曝光能力:4、6、8寸;
  • 全域曝光,无拼接误差;
  • 无景深限制,无需对焦,可在曲面上曝光图形;
  • 双工作模式:
    • 全息光刻模式:周期性纳米结构;
    • 掩膜对准光刻模式:任意微米级结构;
  • 提供手动及自动化方案;



PhableR革新性紫外光刻机/全息光刻系统


指标:


光源

UV light (375nm)

DUV light (266nm)

DUV light (193nm)

全息光刻模式

分辨率/周期范围

125nm / P250-P3000nm

75nm / P150-P2500nm

50nm / P125-P2000nm

掩膜对准光刻模式

Yes

No

操作方式

手动 or 自动

参数设置

Windows

曝光面积

最大100mm、150mm、200mm基板


PhableR 100 晶圆级光子学结构的曝光工具




应用:


  • 图形化蓝宝石衬底(PSS)
  • DFB布拉格光栅
  • 减反层图形
  • 显示滤光片Color Filter
  • 线栅偏振Wire Grid Polarizer(WGP)
  • 光子晶体
  • 磁性纳米结构
  • 太阳能光伏
  • 生物传感器
  • AR、VR技术


Phable紫外光刻机应用实例:


Phable紫外光刻机在图形化蓝宝石衬底(PSS)中的应用


名词解释:图形化蓝宝石衬底Patterned Sapphire Substrates (PSS)


Eulitha公司的PHABLE紫外光刻机是在广泛用于LED生产中的蓝宝石衬底上曝光图形的理解工具。图形化蓝宝石衬底有利于高质量的半导体材料层的 生长,从而得到高性能的LED器件。需要的结构是典型的柱或孔的阵列,一般呈六边形排布,周期为1-3μm(PSS),当制作纳米级图形化蓝宝石衬底 (NPSS——Nano-Patterned Sapphire Substrates)时,周期一般是几百纳米,更精细的结构带来更大的出光效率。大多数蓝宝石样片表面都不平整,使用传统光刻方法,以可接受的成本,很难获得很好的曝光图形,而PHABLE紫外光刻机在蓝宝石衬底上能曝光出这些高分辨的结构,且具有很好的均匀性和重复性。PHABLE紫外光刻机可在四英寸硅片上一次曝光出均匀图形,生产效率非常高。同时,我们可以对涂得很厚的光刻胶进行曝光,以利于下一步轻松地进行蓝宝石衬底的刻蚀。


用PhableR 100高分辨紫外光刻机在2英寸 蓝宝石衬底上曝光出的高分辨图形
在光刻胶上曝光出的周期结构
用PhableR 100高分辨紫外光刻机在 2" 蓝宝石衬底上曝光出的高分辨图形
在光刻胶上曝光出的周期结构


点击下载:Phable紫外光刻机在图形化蓝宝石衬底(PSS)中应用的详细介绍(.pdf)


更多信息,请登录:http://www.eulitha.com/


 

分享到:

 

点击这里给我发消息 点击这里给我发消息

客户服务热线
010-82867920
010-82867921
010-82867922

×