北京汇德信科技有限公司

高分辨紫外/深紫外PHABLE光刻机(全息光刻系统)

高分辨紫外/深紫外

PHABLE光刻机

PHABLE应用

高分辨紫外/深紫外PHABLE光刻机(全息光刻系统)


简介


瑞士Eulitha公司成立于2006年,主要成员来自有30年以上半导体微加工制造经验的,保罗谢尔研究所科学团队。



Eulitha公司开发的PhableR光刻系统,是一款纳米级高分辨图形化设备。PhableR设备的推出,极大地简化了高质量、大面积纳米周期图形的加工过程。Eulitha公司背靠保罗谢尔研究所的强大研究团队,多年来不断致力于提升技术能力,目前客户已经分布在全球众多领域的顶尖科研院所和工业企业。


北京汇德信科技有限公司是瑞士Eulitha公司在中国的独家代理,公司团队有25年以上微纳米加工领域的销售和服务经验,具备完整的咨询和技术支持体系。


应用领域:


照明、激光器、光通信、高端显示、太阳能、传感器、仿生等。


特点及优势:


  • 稳定的纳米级分辨能力;
  • 大面积全域曝光,无需拼接;
  • 无限制DOF,厚胶、表面翘曲无影响;
  • 双工作模式:
    全息光刻模式:周期性纳米结构;
    掩膜对准光刻模式:任意微米级结构。
  • 简化的曝光流程,可实现一键式曝光
  • 灵活的客户定制化方案



指标:


光源 UV (near-i line) DUV (248nm) DUV (193nm)
曝光面积 4、6、8英寸,全域曝光
分辨率 <100nm <80nm <50nm
图形周期范围 250-1100 nm 165-900 nm 125-800 nm
图形占空比范围 30-50%
套刻对准及精度 手动对准,套刻精度 ±2 μm
操作方式 手动装片,自动曝光
参数设置 PLC触屏 Windows系统PC


PhableR高分辨紫外光刻系统 / 全息光刻系统


PhableR 100 晶圆级光子学结构的曝光工具




指标:


光源 UV (near-i line) DUV (248nm) DUV (193nm)
曝光面积 4、6、8英寸,全域曝光
*可定制,步进式曝光
分辨率 <100nm <80nm <50nm
图形周期范围 250-2150 nm 165-1750 nm 125-1500 nm
图形占空比范围 30-70%
套刻对准及精度 半自动对准,套刻精度优于±1 μm,
*可升级全自动对准,套刻精度±0.5 μm
操作方式 手动装片,自动曝光
*可升级为全自动传输及曝光
参数设置 Windows系统PC


 工业型PhableX 高分辨紫外/深紫外光刻机/全息光刻系统
PhableX高分辨紫外光刻系统 / 全息光刻系统



更多信息,请登录:http://www.eulitha.com/


PhableR应用



激光器


(1)分布式反馈激光器,即DFB激光器。与其它激光器不同之处,是内置了布拉格光栅。目前,DFB激光器主要以半导体材料为介质,包括锑化镓(GaSb)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。DFB激光器最大特点是具有非常好的单色性,因此广泛应用于光通信等相关领域。


DFB激光器中的布拉格光栅,是起到波长选择的重要结构,其光栅周期的精度要求非常高。瑞士Eulitha公司研发的PhableR光刻机,是一种适用于批量生产高精度纳米周期性结构的光刻设备,周期精度可以控制到亚埃(<0.1nm)级别。稳定且简单的工艺过程,使PhableR能够广泛应用于激光器中布拉格光栅结构的加工。


P200nm光栅结构SEM照片
P200nm光栅结构SEM照片


(2)垂直腔面发射激光器,即VCSEL,具有圆形对称光斑、阈值电流低、无腔面阈值损伤等特点,在很多领域取代了边发射激光器以及 LED 的地位。VCSEL具备机构易于二维集成、单器件的可调制性等特点,使器件在远距离照明、医疗、人脸识别等领域已经商业化运用。


PhableR光刻机能够良好的匹配到现有半导体工艺中,通过引入PhableR设备制作的纳米光栅结构,能有效提高VCSEL激光器发光效率。





光增强


PhableR光刻系统的大面积纳米图形曝光技术,工艺过程简单且稳定,使前沿的纳米技术能广泛应用到更多的商业化领域。


工艺简单且高质量纳米孔和纳米管阵列结构,为SQW LED提供了一种新的制作工艺,在激光器、生物化学等传感器应用方面有长远远景。



纳米阵列结构广泛应用于,高质量的蓝宝石或氮化镓材料的外延生长。这种纳米结构在外延层生长过程中,能降低材料失配导致的位错和缺陷,提高内部的量子效应和光萃取效率。同时,这种阵列结构也有利于材料的外延生长过程。


纳米蓝宝石图形化衬底(NPSS)是高效率LED器件的必要结构之一。瑞士Eulitha公司研发的PhableR光刻机简单高效的图形化工艺,已经商业化应用于NPSS的加工制造中。




增强现实


增强现实(AR)技术是近年来广受关注的科技领域,其核心部件光波导,总体上可以分为几何光波导和衍射光波导两种。几何光波导,是通过阵列反射镜的堆叠而成。衍射光波导,是利用微加工技术在材料上形成光栅结构。


几何光波导耦合光进入波导需要需要多个“半透半反”镜面阵列组合。阵列中的每个镜面都需要不同的反射透射率,故需要多次不同的镀膜工艺,加工工序繁琐,不易量产。 衍射光波导技术的主要特点在于:光栅的设计和生产灵活、可量产性和良率更高。但是光波导的微加工制造工艺上,需要用到传统半导体的纳米加工设备,例如:电子束直写光刻机和纳米压印。基于这两种设备建立的生产线,有比较高的技术门槛和前期资金投入门槛。


瑞士Eulitha公司研发的PhableR光刻机,相比传统的加工手段,设备工序更简单且高效,在制备大面积纳米结构方面有明显优势。针对AR应用中经常用到的一维和二维光栅等纳米结构,PhableR光刻系统能够提供完美的方案。






高端显示


偏振分光器结构广泛用于液晶显示、投影仪、光学仪器等显示领域。线栅偏振片WGP(Wire Grid Polarizer)由密集排列、线宽小于100nm的铝光栅结构组成,与传统偏振片薄膜相比,WGP偏振片具有更加卓越的可见光谱偏振性能和消光比。基于此特性,WGP能提高显示功率效率和色彩保真度。目前,这种技术已经商业应用在小尺寸的偏振结构上,例如,投影仪。WGP在智能手机和平板电视显示应用上,能提升显示效果,同时机身更轻薄,也具备良好的应用前景。


WGP技术的超高性能广为人知,但是受制于没有成熟的制造大面积且无拼接的批量化加工技术,使得其在手机、平板电脑、电视等大面积应用场景的商业化受到局限。


瑞士Eulitha公司研发的PhableR光刻机,通过无拼接非接触的曝光,可以实现大面积纳米图形化结构,图形最小线宽优于50nm。设备兼容传统半导体加工的前后道工艺,很容易集成到现有的生产线中。



在4”基片上制作P125nm光栅结构,无拼接
在4”基片上制作P125nm光栅结构,无拼接



偏振成像


相比传统相机利用光强信号获取的图像信息,利用光偏振特性的偏振成像技术,可以极大的提高图像信息获取和分析能力,在工业检测、环境监测、大气摇杆、夜视成像等方面,有巨大的应用优势。


偏振成像技术中最核心的部件是微偏振阵列结构(MPA),结构是由不同方向的铝光栅阵列组成。MPA结构使探测光强度的光电传感器,具备了分辨光信号偏振状态的能力。 铝光栅的周期,根据不同的应用有所差异,大多是在纳米尺度。传统的微加工手段制作的MPA结构,往往会遇到加工精度和效率的抉择。电子束直写光刻机可以满足高精度的加工需求,但是很难实现大批量生产。


瑞士Eulitha公司研发的PhableR光刻机,能高效率完成晶圆的纳米图形化制作,高精度的对准功能满足光栅结构与像素单元的位置要求。同时,PhableR设备兼容传统半导体加工的前后道工艺,很容易集成到现有的生产线中。





 

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