北京汇德信科技有限公司

全面的纳米压印技术服务——涵盖压印设备和工艺

汇德信NEWSLETTER(2007.01)

尊敬的老师,您好
汇德信的Newsletter是一封由北京汇德信科技有限公司为您提供的关于德国高新技术、汇德信及其代理厂商最新动态的资讯报导。
北京汇德信科技有限公司(GermanTech Co., Ltd)是由数位留德归国人士根据专业特长创办的高新技术企业,旨在提供广泛的国际化高科技服务。在致力于同国际前沿技术合作并推出自身技术和产品的基础上,目前系统地代理德国产品,广泛应用于高校、研究院所和微纳米工业企业,产品包括:表面科学分析仪器、扫描探针显微仪器、微纳米技术重要工艺设备、测量技术设备(介电、温度)等。


本期专题:全面的纳米压印技术服务——涵盖压印设备和工艺

目录:

一,成套纳米压印产品,提供全面技术服务

二,最新紫外固化纳米压印模板介绍

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在上一期Newsletter中我们简单介绍了纳米压印光刻技术(NIL)。正是由于其具有分辨率高、生产速度快、低成本等特点,这种全新纳米图形复制技术获得了越来越多的关注。国内外众多研究所和高技术企业都在开展相关技术的研发,研究领域涉及下一代半导体制造;微流体、微光学器件;生物医学;高密度存储;光子晶体等,技术已日臻成熟。

但这项技术在推广过程中,仍存在不少技术难题,这些问题极大限制了纳米压印技术在应用领域的推广。其中如何获得高质量模板是很多研究人员认为很有挑战的一项。实际上,纳米压印的高效、低成本是与模板加工的高难度相辅相成的,只不过是将这种复杂性从硅片生产上转移到压印模板加工上。

要获得纳米图形的压印模板,加工过程很复杂。通常使用电子束(EBL)直写来进行加工,这样可以获得最高的分辨率。具体过程是,先在压模上涂上—层电子束光刻胶,然后用电子束制出高分辨纳米图案,再进行刻蚀、剥离等常规的图形转移技术,将电子束光刻分辨形成的图形转移到压模基底上。为了防止在压印过程中模板和下面聚合物之间的粘连,需要对模板进行表面修饰以降低其表面能。对于那些软的模板,还需要通过键合到玻璃背板上方可使用。

此外,一块合格的模板在出厂前都要经过严格的检测。如何控制缺陷是一个关键的问题,因为模具中的任何一点缺陷都将在后续的压印过程中被反复复制。Nanonex公司的专家指出:“对于纳米压印光刻技术来说,关键的问题是缺陷密度是否足够低至能被行业所接受。”这就意味着,你必须装备价格高昂的检测设备来检测模板。

可见要想独立完成一块合格纳米压印模板的制作,必须有一个完整的微加工实验室。电子束光刻机,刻蚀、沉积设备,高精度的检测仪器缺一不可。建立这样的实验室,预算至少要几百万美金,这样的费用是许多国内院校很难申请到的。

事实上,技术服务不配套导致了纳米压印技术在应用领域的推广工作受到了极大限制。这就需要有专业的单位来提供各类压印所需的配套产品,如模板、压印胶以及相关工艺。为此,我们北京汇德信科技有限公司(GermanTech Co., Ltd)推出了全套的纳米压印产品和技术服务。

一,成套纳米压印产品,提供全面技术服务

纳米压印光刻技术可以大致分为热压印法、紫外固化法和微接触法。这三种压印方法各有特点,它们之间的比较见下表:

工艺
热压印
紫外压印
微接触印刷
环境
真空
UV光,真空选项
“Ink工艺”,乏真空
温度
高温
室温
室温
压力
2~40kN
1~100N
1~40N
最小尺寸
<100nm
<15nm
<50nm
深宽比
1~6
1~4
多次压印
多层压印
可以
可以
较难
套刻精度
较好
模板类型
硬模板
硬、软模板
软模板
衬底尺寸
50~200mm
10~200mm
10~200mm

针对不同的纳米压印工艺,我们为客户提供不同的产品。
包括各类纳米压印设备、模板、压印胶、分析测量仪器及相关工艺等。纳米压印设备的情况我们曾经在以前的Newsletter中全面介绍过,这里主要介绍压印模板。

我们提供各类纳米压印技术所需的软硬模板和配套的压印用胶。老师们可以利用我们提供的标准模板,熟悉压印技术的整个工艺过程,也可以根据自己的研究课题提出具体要求,我们为您加工专用模板并提供相关技术。


二,最新紫外固化纳米压印模板介绍

2.1纳米压印模板说明

上期Newsletter中我们介绍了部分紫外固化纳米压印用的标准模板,有硬、软两种,材质分别为石英和PMDS。这些标准模板,图形的线宽为50nm~20μm,图形种类多样,包括线条、网格、矩阵、放射线等,可以很好的演示压印效果,主要用于工艺及设备的验证。

最近,我们推出一种新型标准模板,是一种高密度纳米结构,不仅可用于演示而且更具实际应用的价值。它所具有的高密度点阵结构非常适于高密度存储技术的研发。我们知道要想实现超高密度存储,就必须将存储单元以及各单元间间距做得非常小,为了准确地加工出这种纳米级的图案,过去只能利用电子束曝光装置进行加工,成本和生产速度都无法满足要求。而现在,用纳米压印技术就可以出色完成这类高密度纳米结构的制作。据报道,国外已用该技术制备出Nano-CD,其轨道宽度为40 nm,存储密度达到400 Gbit/25.4 mm×25.4 mm,差不多比普通CD高3个数量级。
我们推出的这种新型标准模板,正是适应了高密度存储研究的要求,为老师们进一步的开发提供了一种方便、可靠的重要工具。此外,它还可用于其他研究领域,如纳米生物器件制备等。

2.2新模板参数和说明

右图:模板上纳米结构的SEM像

说明:
模板为直径1英寸石英Wafer,上面刻有面积为1X1mm2的纳米点阵结构。
点与点的间距为50nm,每个点的直径50nm。

2.3典型应用

  • 高分辨纳米图形压印技术的演示
  • 磁记录
  • 光学数据存储
  • 生物纳米传感器


更多相关产品信息,欢迎来电或给我们发送电子邮件联系。
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