北京汇德信科技有限公司

离子束溅射系统



OLED Evaporator
三个束源炉/样品为10×10mm,可以加热或冷却。


离子束溅射系统与离子铣类似,就是使用气体原子离子化之后对靶材表面进行轰击,是半导体工艺中PVD制备办法里面最重要的一种。主要用于制备光学薄膜与半导体薄膜等。当我们使用IBE功能的时候,只需要把离子枪装在样品的对面,直接轰击样品表面,以完成样品的清洁与刻蚀。当与电子束合在一起的时候称之为IBAD,即离子辅助镀膜,可以增加镀膜材料附着在样品表面的能量,可制备高品质高密度的薄膜。


我们产品的主要特点:


  • 可以沉积具有极高质量和极高重复性的大规模薄膜
  • 利用离子源产生指向待溅射目标的聚焦离子束。由于目标材料是通过动量传递而不是化学或热过程烧蚀的,所以任何材料都可以沉积在衬底上(无论是导电的,还是绝缘的)
  • 靶材夹持器被设计成具有多个面,允许通过旋转来沉积不同的目标材料
  • 如果配置离子束辅助溅射源,则实现衬底材料与沉积膜之间逐渐过渡,并且沉积膜内应力较小
  • 配备掩模系统,将实现在薄膜上形成独特的沉积图案
  • 通过使用FBBEAR控制软件使过程自动化,实现了精确控制和高稳定性。FBBEAR控制软件提供完整的数据记录、精确的参数调整,使用户操作简单,实验重复性可靠


应用:


IBSD可生长的薄膜材料包括:自旋阀/AMR/GMR材料、磁隧道结、介质干涉涂层、高k材料、形状记忆合金、超导材料等。



 

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