北京汇德信科技有限公司

电子束蒸发



电子束蒸发(EBE,ELECTRON BEAM EVAPORATOR)是在真空条件下利用电子束进行直接加热蒸发材料,使蒸发材料气化并向基板输运,在基底上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中,被加热的物质放置于水冷的坩锅中,可避免蒸发材料与坩锅壁发生反应影响薄膜的质量,因此,电子束蒸发沉积法可以制备高纯薄膜,同时在同一蒸发沉积装置中可以安置多个坩锅,实现同时或分别蒸发,沉积多种不同的物质。通过电子束蒸发,任何材料都可以被蒸发,不同材料需要采用不同类型的功率以获得所要达到的蒸发率。


我们产品的主要特点:


  • 具有内腔屏蔽的矩形SS316L电抛光室,腔体适中。
  • 极限真空8E-8torr,可使用冷泵或者大抽速分子泵,抽气速度快。
  • 超高真空泵和量规。
  • 6×3行星样品操纵台(自转和公转)。
  • 样品架有几种可以供客户选择:1、单坩埚,只能自转。2、多坩埚,可行星式旋转。3、选择可倾斜的样品架(此技术本公司独有)。
  • 石英红外加热灯,样品加热温度:300°C;在特殊情况下可保证样品不超过80摄氏度,对工艺要求比较严苛使用者来说非常重要,因为光刻胶遇到高温会起泡,所以希望温度越低越好。适用于金属沉积,金属剥离工艺。
  • 具有多种靶材坩埚的电子束源。可配备单或双电子束源。每个电子束源可安装有多个靶材料坩埚,其最多可存储6种靶材料。2个电子束源,可以同时沉积2种不同的材料到您的衬底上。它还可以用于高熔点温度元素沉积。此外,还配备有旋转和自转多个样品的样品行星机构,可以在许多衬底上精确和同时沉积,而且显著改善沉积薄膜的均匀性和质量。
  • 电子枪可选用日本爱发科,美国泰利玛,双晶振可以减少因晶振失误导致的样品报废的困扰。
  • 我们有双电子束或单电子束热蒸发联用系统。
  • 厚度监控器。
  • FBBeam系统控制软件使过程自动化,从而实现了精确控制和高稳定性。FBBEAR,提供完整的数据记录,精确的参数调整,以及沉积过程的自动参数设置。这使得沉积过程易于操作、完全自动化、用户友好、一致,并且将提供可靠的实验重复性。


应用:


电子束蒸发可生长的材料包括:金属(Al、Nb、Ge等)、电介质、氧化物(SiO2、Ta2O5、Al2O3等)、半导体和几种合金等。



 

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