北京汇德信科技有限公司

电子束蒸发系统 EBS-150




双电子束可以沉积大尺度薄膜,且具有极高质量和极高重复性。它配备了2个电子束源。每个电子束源安装有多个靶材坩埚,其最多可存储6种靶材料。由于它有2个电子束源,可以同时沉积2种不同的材料到衬底上。此外,还配备有多个样品公转和自转的样品行星机构。可以在多个衬底上精确和同时沉积,同时显著改善沉积薄膜的均匀性和质量。


此外,利用FBBEAR系统控制软件使工艺过程自动化,从而实现了精确控制和高稳定性。FBBEAR,提供完整的数据记录,精确的参数调整,以及沉积过程的自动参数设置。这使得沉积过程易于操作、完全自动化、用户友好、一致,并且将提供可靠的实验重复性。


电子束蒸发可沉积的材料包括:金属(Al、Nb、Ge等)、电介质、氧化物(SiO2、Ta2O5、Al2O3等)、半导体和多种合金等。



特点:


  • 本底真空压力:5E-8torr
  • 8英寸样品(最大)
  • 含有Z向位移机构的衬底倾斜/旋转工作台
  • IBAD(选项)
  • 软件控制全自动工艺过程
  • 水冷腔室



 

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